Base Formula 芳程式净化修复面膜

Base Formula 芳程式净化修复面膜
  • 成分表(共20种成分)
Base Formula 芳程式净化修复面膜成分表来自备案信息
低风险19种 中风险1种 高风险0种
  • 含有致痘风险:1种   ( 鲸蜡硬脂醇 )
  • 含有防腐剂:2种   ( 脱氢乙酸、 苯甲醇 )
名称 安全等级 成分提示 作用
1 溶剂
高岭土 1 吸附剂 填充剂
甘油 2 保湿剂 溶剂
膨润土 2 吸附剂
甜扁桃油 1

活性成分

舒缓抗敏 保湿剂
牛油果树果脂 1

活性成分

柔润剂 皮肤调理剂
刺阿干树仁油 1

活性成分

柔润剂 保湿剂 抗氧化剂
鲸蜡硬脂醇 1

致痘风险 2

乳化剂 柔润剂 增稠剂
椰油基葡糖苷 1

活性成分

清洁剂 表面活性剂 增泡剂
椰油醇 1 柔润剂 乳化剂
甘油硬脂酸酯 1 乳化剂 柔润剂
山鸡椒果油 0

活性成分

气味抑制剂 皮肤调理剂
薰衣草油 2

活性成分

皮肤调理剂
麝香草花/叶油 0

活性成分

皮肤调理剂 气味抑制剂
乳香油 1

活性成分

柔润剂 抗炎剂 控油抗脂溢 抗氧化剂
向日葵籽油 1

活性成分

柔润剂 保湿剂 皮肤调理剂
生育酚(维生素E) 1

活性成分

抗氧化剂 保湿剂
脱氢乙酸 1

防腐剂

防腐剂
EDTA 二钠 1 螯合剂
苯甲醇 6

防腐剂

防腐剂 溶剂
Base Formula 芳程式净化修复面膜备案参数
  • 备案名称:Base Formula 芳程式净化修复面膜
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